“TSMC 2나노 기술 대량 유출”…대만, 엔지니어 3명 최대 14년형 구형 파장

현지시각 27일, 대만(Taiwan) 고등검찰서 지적재산권분서는 ‘TSMC’의 2나노미터(nm) 반도체 공정 핵심 도면이 유출된 사건과 관련해 엔지니어 3명을 기소했다고 밝혔다. 이들에게는 국가보안법상 국가핵심 주요기술 영업비밀의 역외사용 혐의 등이 적용됐고, 검찰은 최고 14년의 중형을 재판부에 요청했다. 이번 조치는 대만 반도체 생태계 전반에 타격을 우려하게 만들며, 글로벌 반도체 시장 협력과 경쟁 구도에도 직접적인 영향을 주고 있다.  

검찰 조사 결과에 따르면, TSMC 퇴직자 천 씨가 현직 엔지니어 두 명으로부터 약 1천여 장 분량의 2나노 공정 기술 도면을 휴대전화 등으로 전달받은 후, 일본(Japan) 반도체 장비사 도쿄일렉트론에 이직해 해당 자료를 넘긴 것으로 파악됐다. 해당 사건은 지난 5월 8일 TSMC가 직접 고소장을 접수하면서 공식 수사로 전환됐고, 이달 6일 세 명의 피의자가 구속됐다.  

대만(Taiwan) 검찰은 “이번 기술 유출은 국가 전략 산업의 국제 경쟁력을 심대하게 위협한다”며 각각 징역 14년, 9년, 7년을 구형했다. 대만은 세계 최대 반도체 위탁생산(파운드리) 기업인 TSMC를 보유하고 있으며, 2나노 공정 기술은 글로벌 반도체 수주와 시장 지위에서 차세대 핵심으로 꼽힌다.  

도면이 해외 경쟁사로 유출된 정황이 드러나며, 대만 내부에서는 전략기술 보호와 인재의 해외 유출 리스크에 대한 우려가 더욱 커지고 있다. 업계에서는 기술 유출 방지 및 경쟁사 이직 시의 정보 관리 문제가 전방위 이슈로 부상했다.  

이 사건이 알려지자 대만 증시에서는 TSMC 등 주요 반도체 종목 투자 심리가 단기 위축되는 흐름을 나타냈다. 업계 전문가들은 “국가 간 기술 분쟁, 글로벌 장비업체 간 특허 소송 등의 연쇄적 파장도 배제할 수 없다”고 진단했다.  

뉴욕타임스(New York Times), 니혼게이자이신문(Nikkei) 등 외신도 이번 사안을 대만 전략산업의 시험대이자 기술 패권경쟁의 현주소로 분석했다.  

대만 당국은 유사 영업비밀 범죄에 대한 처벌 및 대응을 강화한다는 방침을 밝혔다. 산업계 각 부문에서도 법적 제재는 물론 보안 시스템의 전면 개선 논의가 이뤄지고 있다.  

전문가들은 “향후 대만 정부와 반도체 업계가 더 강도 높은 핵심 기술 보호 방안, 인재 유출 사전 차단책 마련에 힘쓸 것”이라고 내다봤다. 이번 유출 사건이 글로벌 반도체 산업의 질서 재편에 어떤 파장을 남길지 주목된다.