“TSMC 2나노 기술유출 파장”…도쿄일렉트론 CEO 대만 방문에 산업계 긴장

현지시각 20일, 대만(Taiwan)에서 반도체 업계의 첨단 기술 유출 논란에 대한 중대한 움직임이 나타났다. 일본(Japan) 도쿄일렉트론(Tokyo Electron/TEL) 가와이 도시키 최고경영자가 TSMC 2나노미터 공정 기술 유출 사건 해결을 위해 내달 ‘타이베이국제반도체전’이 열리는 시기에 맞춰 대만을 방문한다고 복수의 현지 언론이 전했다. 이번 조치는 TSMC와 TEL, 양사뿐 아니라 한일 첨단 산업계 전반에 적잖은 파장을 안기고 있다.

이번 방문은 최근 TSMC의 2나노 공정 기술이 유출된 사건과 관련해, 대만 검찰이 증거 수집 절차를 마무리하는 등 사법적 조치가 본격화되자 도쿄일렉트론이 중대 협의에 대비하는 행보로 해석된다. TSMC 내부에서는 일본 측 책임론이 제기되고 있으며, TEL은 임원을 추가적으로 대만에 파견해 수사에 협조하고 있는 것으로 파악됐다.

업계 설명에 따르면, 해당 사건은 TSMC 고위 직원 퇴직 이후 TEL 이직 과정에서 발생했다. 대만 검찰은 전현직 직원 9명을 국가안전법 위반 혐의 등으로 체포·조사했으며, 조사 결과에 따라 TSMC가 도쿄일렉트론에 대규모 배상 또는 구상권을 공식 청구할 가능성도 거론되고 있다.

이 같은 행보에 대해 일본과 대만 양국 모두 이번 기술 분쟁이 정치적·외교적 문제로 확대되는 것은 원치 않는 기류다. 양국 정부는 공식 논평을 자제하고 있으나, 업계 관계자들은 “민감한 기술 유출 사건이 한일 및 대만 간 첨단 산업 협력 구조에 부담을 더할 수 있다”고 경계했다. 타이베이국제반도체전 기간 중 양사 경영진 간 중대한 협상이 예고되며, 업계의 시선이 집중되고 있다.

미국(USA) 등 글로벌 주요 반도체 기업도 TSMC와 도쿄일렉트론 간 마찰이 세계 반도체 공급망 안정화에 변수로 작용할 수 있다며 촉각을 곤두세우는 분위기다. 니혼게이자이신문 등 일본 언론은 “최첨단 미세공정 기술이 외부로 유출되면 업계 판도 자체가 흔들릴 수 있다”고 진단했다.

전문가들은 “TSMC와 도쿄일렉트론 간의 대응이 향후 아시아 반도체 동맹과 글로벌 첨단 기술 보호 트렌드의 시험대가 될 것”으로 내다봤다. 이번 조치가 한일 및 대만 간 산업 협력뿐 아니라 국제 반도체 시장 질서에 어떤 파장을 미칠지 주목된다.