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“수율 10%에 그쳐”…인텔 1.8나노 공정, TSMC와 기술 격차 우려
국제

“수율 10%에 그쳐”…인텔 1.8나노 공정, TSMC와 기술 격차 우려

한채린 기자
입력

현지시각 5일, 미국(USA) 반도체 기업 인텔(Intel)이 18A(1.8나노미터) 첨단 공정 적용 과정에서 수율(양품 비율) 저하로 기대에 미치지 못하는 난항을 겪고 있는 사실이 업계 관계자를 통해 확인됐다. 이번 사안은 미세화 경쟁이 치열한 글로벌 파운드리(위탁생산) 시장에서 기술력과 공급망 안정성에 직접적 영향을 줄 수 있다는 점에서 주목된다.

 

인텔은 최근 18A 공정을 적용한 노트북용 차세대 CPU ‘팬서레이크’의 대량생산을 목표로 시범 운영에 집중해왔다. 그러나 지난해 말 기준 5%, 최근에도 약 10%에 그친 수율로 생산 확대와 수익성 주도권 확보 모두에 어려움을 겪는 것으로 전해진다. 업계에서는 수율 70~80%를 안정적 생산 기준선으로 보아, 선단(미세) 공정에서 이처럼 낮은 수율은 정상적인 출하와 실적 개선에 걸림돌로 작용한다는 분석이 나온다.

‘인텔’ 1.8나노 공정 수율 10% 수준…TSMC와 격차 확대 우려
‘인텔’ 1.8나노 공정 수율 10% 수준…TSMC와 격차 확대 우려

반도체 제조에서 회로 선폭을 극한까지 줄이면서 발생하는 불량률은 기술 장벽으로 꼽힌다. 인텔은 공격적인 투자로 미국과 해외 공장 설비를 확충해왔으나, 범용 경쟁력 확보엔 수율 극복이 관건으로 남아 있다. 업계 관계자들은 하반기에도 상황이 급격히 개선되기 어려울 경우, 인텔이 일부 제품을 적자 판매할 수 있다는 전망도 제기한다.

 

특히 대만(Taiwan)의 파운드리 강자 TSMC와의 초미세 공정 격차가 당분간 확대될 수 있다는 우려가 커진다. TSMC는 3나노 이하 공정에서 안정적 수율을 확보하며 고객사와의 연계를 강화해왔지만, 인텔은 18A 양산 일정과 효율 개선에 발목이 잡히고 있다는 평가다. 이에 대해 인텔 최고재무책임자 데이비드 진스너는 “수율은 보도 수치보다 양호하다”고 강조했으나, 구체적 수치는 공개를 거부했다.

 

글로벌 반도체 시장은 공급망 재편과 첨단 공정 주도권을 둘러싸고 치열한 판도 변화가 이어지고 있다. 주요 외신도 인텔의 18A 수율 난항에 주목하며 ‘TSMC와의 기술 격차 확대 신호’(블룸버그), ‘글로벌 파운드리 시장 영향’(파이낸셜타임스) 등으로 평가했다.

 

전문가들은 인텔의 4분기 팬서레이크 양산 성공 여부가 향후 파운드리 경쟁, 생산성, 고객사 확보에 결정적 영향을 미칠 것으로 본다. 시장 참가자들은 인텔이 대규모 투자와 기술 난제를 극복하고 빠른 시간 안에 수율 개선에 성공할지 예의주시하고 있다. 이번 상황이 글로벌 반도체 산업·공급망 역학에 어떤 변화를 가져올지 주목된다.

한채린 기자
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#인텔#tsmc#팬서레이크